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金属化锗窗用于红外焦平面成像探测器的封装。

  

技术指标 

 

材料:

光学级锗单晶

尺寸公差:

+/- 0.1mm  

平行度:

< 3 分

光洁度:

60-40 S/D 

面形N:

3 (光圈)

光学膜层:

T>90%@8um-12um,T<1%@1-7um 

金属化膜层:

边沿2mm以内, 金属化膜层(Ti/Ni/Au or Cr/Ni/Au)

 

膜层曲线  

金属化锗窗用于红外焦平面成像探测器的封装。

  

技术指标 

 

材料:

光学级锗单晶

尺寸公差:

+/- 0.1mm  

平行度:

< 3 分

光洁度:

60-40 S/D 

面形N:

3 (光圈)

光学膜层:

T>90%@8um-12um,T<1%@1-7um 

金属化膜层:

边沿2mm以内, 金属化膜层(Ti/Ni/Au or Cr/Ni/Au)

 

膜层曲线  

产品详情

金属化锗窗